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晶圓HMDS烤箱預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS預處理烘箱處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態涂布不可比擬更好的均勻性.
