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智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)

智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-09-17
  • 訪  問  量:2091
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產品詳情

智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)用途:

   在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

智能型HMDS真空系統特點:

HMDS 藥液泄漏報警提示功能

HMDS低液位報警提示功能

工藝數據記錄功能

藥液管道預熱功能

程序鎖定保護等功能

智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)技術性能:

1.尺寸(深*寬*高)
內腔尺寸:450×450×450(mm)(可定制)
外形尺寸:750×1120×1650(mm)
2. 材質
外箱采用優質冷軋板噴塑,內箱采用 316L 醫用級不銹鋼
3.溫度范圍
RT+50-200℃
4.溫度分辨率
0.1℃
5.溫度波動度
≤±0.5
6 真空度
≤133pa(1torr)
7.電源及總功率
AC 220V±10% / 50HZ,總功率約 3.5KW
8.控制儀表
人機界面
9.擱板層數
2 層
10.HMDS控制
可控制HMDS 藥液添加量
11.真空泵

無油渦旋真空泵



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