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硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱 工業烘箱

硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備.潔凈烘箱適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-09-16
  • 訪  問  量:2383
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產品詳情

硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱概述

硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制P.I.D調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。

用途

潔凈烘箱適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

技術參數

Ø  溫控輸出:SSR輸出,品牌繼電器,固態繼電器。                   

Ø  測溫裝置:PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置,測溫精確。

Ø  內室材料:采用無磁性不銹鋼;外箱采用 SS41# 中碳鋼板經磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆,可防止微塵(PARTICLE) 。

Ø  保溫材料:玻璃纖維。

Ø  保護裝置:超溫保護器,無熔絲開關。

Ø  流 量 計:氮氣轉子流量計

 

 

無氧烘箱

一. 概述

無氧化烘箱,在工作時,工作室內充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途:IC包裝,LCD,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板……

二.技術參數

1、主要技術指標

Ø  含氧量:< 100ppm;

Ø  溫度范圍: RT(室溫)+10~ +200℃;

Ø  溫度均勻度:±1℃;

Ø  溫度波動度:±0.5℃(空載)

Ø  溫控精度:0.1℃;

Ø  烘箱擱板為活動形式。

 

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