24小時(shí)銷售熱線
18016281599
18016281599
產(chǎn)品中心
P產(chǎn)品分類RODUCT CATEGORY
12寸HMDS真空烤箱，芯片HMDS烘箱過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-09-16訪 問 量：2160
立即咨詢
聯(lián)系電話：021-31434441
12寸HMDS真空烤箱，芯片HMDS烘箱用途：
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)，HMDS烘箱，HMDS真空烤箱適用行業(yè)：
適用于LED芯片、硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)，HMDS烘箱，HMDS真空烤箱技術(shù)參數(shù)
工作室尺寸 | 350×350×350、450×450×450、850×850×850（mm）可自定義 |
材質(zhì) | 外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或304不銹鋼，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼 |
溫度范圍 | RT+10-250℃ |
真空度 | ≤133pa（1torr） |
潔凈度 | class 100，設(shè)備采用無塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境 |
控制儀表 | 人機(jī)界面 |
擱板層數(shù) | 2層 |
HMDS控制 | 可控制HMDS藥夜添加量 |
真空泵 | 旋片式油泵（可選配進(jìn)口無油泵） |
保護(hù)裝置 | HMDS低液位報(bào)警，HMDS自動(dòng)添加，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等 |
021-31434441
junsish@163.com
86-021-60649603
版權(quán)所有© 2025 上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司 All Rights Reserved 備案號(hào)：滬ICP備16022591號(hào)-1
技術(shù)支持：環(huán)保在線 管理登錄 sitemap.xml
我的位置：
